三塩化ホウ素
当社が日本で初めて国産化した三塩化ホウ素は、最高品質の高純度品であり、アルミニウム配線のドライエッチングガスとして最適です。
当社が日本で初めて国産化した三塩化ホウ素は、最高品質の高純度品であり、アルミニウム配線のドライエッチングガスとして最適です。
ドライエッチング排ガス処理装置
半導体の製造過程で排出される各種の有害ガスを科学的・物理的に効率よく無害化する装置です。
固形分含有系排ガス対応 固形分捕集装置
半導体・液晶製造工程で発生する固形分を、効率良く多量に捕集が可能です。
半導体・液晶製造工程対応 チャンバー
チャンバーのクリーニング時に発生する臭気は、HCl、HF、Cl2等有毒なガスが多く、クリーニング時の労働環境を悪化させ、作業性にも支障をきたしています。これらのガスをTLV値以下にして、作業性を向上させます。
低濃度でもその毒性が高く、人体への悪影響が大きいオゾンを、室温で簡便な方法で除去いたします。
毒性が高く、悪臭があり人体への悪影響が大きい硫化水素を、室温で簡便な方法で除去いたします。
VOCガス除害装置
各種の揮発性有機化合物(VOC)について低濃度から1%レベルの高濃度まで広範囲に分解除害いたします。