医薬原体中間体受託製造 Contract Manufacturing
Overview 概要
医薬事業は長年培った有機合成技術を糧に、1980年代から研究開発がスタートしました。
今では、自社、または製薬メーカーとの共同で医薬原体を開発する「創薬」と製薬会社から原体・中間体製造のプロセス開発や製造を請け負う「受託」の二つの柱で成り立っています。
- 開発段階から上市後まで、どの段階でも、原薬・中間体の受託製造を引受けます。
- 経験豊富なプロセスケミスト・エンジニアが最適な製造プロセスを確立し、スケールアップを確実に進めます。
- ご要望に応じて、試験法の開発・バリデーションをおこないます。
- 開発期間を通じて、豊富な経験を生かした治験薬GMPに基づく治験薬原体・中間体の製造を行ない、お客様の開発をサポートいたします。
- ご要望に応じて、申請関係書類(Drug Master File 等)の作成、提出を行ないます。
- 承認後は十分な反応槽のキャパシティを活用した製造により、お客様の製品の安定供給を支えていきます。
- 製造はcGMPに基づいて管理されております。米国FDAから新薬申請に伴う承認前査察(PAI)を受けています。最新PAIは2008年4月です。
Inspection Record
米国FDAによる査察実績
米国FDAから新薬申請に伴う承認前査察(PAI)を受け、高い評価を得ました。
US-FDA | |
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2002年 | 医薬中間体(PAI) |
2008年 | 医薬原体(PAI) |
また、上記以外にも、日本国内の規制当局、日本・欧米の多数の製薬ユーザー様の各種査察を受けております。
New Drug DMF Records
新薬DMF実績
お客様のご要望に応じ、申請関係書類(Drug Master File等)の作成、提出を行なっています。
US-FDA | Europe | 日本(製造承認) | |||
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1998年 | 医薬原体(IND) | 1998年~ | 動物薬原体(NDA) | 1993年 | 医薬原体 |
1998年 | 医薬中間体(NDA) | 1995年 | 医薬原体 | ||
1999年 | 動物薬中間体(NDA) | 2000年 | 医薬原体 | ||
2000年 | 医薬原体(IND) | 2003年 | 医薬原体 | ||
2004年 | 医薬原体(IND) |
Manufacturing Equipment
製造設備(宇部ケミカル工場)
医薬原体中間体受託製造は、プロセス開発からパイロット製造・承認後の商業生産まで、山口県宇部市の同じサイトで一貫して行なっております。新薬(オリジナル医薬品)の原薬・中間体の製造を日本、欧州、米国向けに行ってきており、豊富な経験がございます。
第1医薬品工場(cGMP対応 原体用汎用プラント)
機器 | サイズ/能力 | 材質 | |
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反応槽 | 4,000L(2基) | Glass lined | |
3,000L | Glass lined | ||
2,000L | Glass lined | ||
2,000L | SUS316 | ||
1,300L | Glass lined | ||
分離・乾燥 | 遠心分離機 | 36inch(2基) | Teflon® lined*1 |
遠心分離機 | 36inch(2基) | SUS316L | |
コニカル乾燥機 | 1,500L | Glass lined | |
コニカル乾燥機 | 1,500L | SUS316 | |
蒸留塔 | Sulzer 4,000H(2基) | SUS316 |
第2医薬品工場(cGMP対応 原体/中間体用汎用プラント)
<原体系列(cGMP対応)>
機器 | サイズ/能力 | 材質 | |
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反応槽 | 4,000L(3基) | Glass lined | |
分離・乾燥 | 遠心分離機 | 42inch(2基) | Teflon® lined*1 |
濾過機 | 1m²(2基) | SUS316 | |
濾過機 | 0.8m² | Glass lined | |
コニカル乾燥機 | 3,000L(2基) | Glass lined | |
静置式乾燥機 | 16m² | SUS316 | |
粉砕機 | ジェットミル | 40kg/h | SUS316 |
コミル®(解砕機)*3 | 100kg/h | Hastelloy® C-22*2 |
<中間体系列(cGMP対応)>
機器 | サイズ/能力 | 材質 | |
---|---|---|---|
反応槽 | 4,000L | Glass lined | |
8,000L(4基) | Glass lined | ||
8,000L(2基) | SUS316 | ||
分離・乾燥 | 遠心分離機 | 48inch | SUS316 |
遠心分離機 | 48inch | Teflon® lined*1 | |
濾過機 | 3m² | SUS316 | |
濾過機 | 4m² | SUS316 | |
濾過機 | 2m² | Hastelloy® C-22*2 | |
コニカル乾燥機 | 2,000L | SUS316 | |
コニカル乾燥機 | 3,000L | SUS316 | |
コニカル乾燥機 | 3,000L | Glass lineds |
第3医薬品工場(cGMP対応 原体/中間体用汎用プラント)
機器 | サイズ/能力 | 材質 | |
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反応槽 | 8,000L(2基) | Glass lined | |
10,000L | SUS316 | ||
15,000L(3基) | Glass lined | ||
分離・乾燥 | 遠心分離機 | 48inch | Teflon® lined*1 |
遠心分離機 | 48inch | SUS316 | |
濾過機 | 4m² | Hastelloy® C-22*2 | |
濾過機 | 4m² | SUS316 | |
濾過機 | 5m² | SUS316 | |
コニカル乾燥機 | 6,000L | Glass lined | |
コニカル乾燥機 | 6,000L | SUS316 |
治験薬工場(cGMP対応 汎用パイロットプラント) 計3系列
機器 | サイズ/能力 | 材質 | |
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反応槽 | 2,000L(5基) | Glass lined | |
2,000L | Stainless steel | ||
1,000L | Glass lined | ||
500L(2基) | Glass lined | ||
200L | Glass lined | ||
50L | Glass lined | ||
高圧反応(~0.7MPa) | 2,600L | Stainless steel | |
マックスブレンド | 2,000L | Glass lined | |
低温反応(-90~90℃) | 500L | Stainless stee | |
分離・乾燥 | 遠心分離機 | 42inch | Teflon® lined*1 |
遠心分離機 | 42inch | Stainless steel | |
遠心分離機 | 30inch | Stainless steel | |
濾過機 | 0.3m²(2基) | Glass lined | |
濾過機 | 0.2m² | Hastelloy® C-22*2 | |
濾過機 | 0.2m² | Glass lined | |
濾過乾燥機 | 0.2m² | Hastelloy® C-22*2 | |
静置式乾燥機 | 9.2m² | Stainless steel | |
振動流動乾燥機 | 240L | Titanium lined | |
コニカル乾燥機 | 1,000L | Glass lined | |
コニカル乾燥機 | 1,000L | Stainless steel | |
粉砕機 | ジェットミル | 10kg/h | Stainless steel |
ハンマーミル | 10-30kg/h | Stainless steel | |
コミル®(解砕機)*3 | 40kg/h | Stainless steel |
*1「Teflon®」はデュポン社の登録商標です。
*2「Hastelloy®」はヘインズ社の登録商標です。
*3「コミル®」はクアドロ・エンジニアリング社の登録商標です。
Manufacturing Equipment
製造設備(吉富工場)
cGMP対応多目的原薬製造プラント、多目的治験薬製造プラントを用いて、医薬原薬・医薬中間体を高品質・低コストで安全に安定供給しています。医薬原薬・医薬中間体の品質保証について、原薬調達から製造、加工、出荷に至るまでの全てのプロセスで万全の品質保証体制を敷き、お客様の信頼と満足にお応えしております。
商業生産設備概要
危険な反応 | テトラゾール化、ジアゾ化、ニトロ化、水素還元、グリニヤール反応 |
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その他 | アミノ化、アルキル化、イミド化、イミノエーテル化、エーテル化、エステル化、カルバモイル化、スルホン化、脱ハロゲン化、チオアミド化、ジスルフィド化、ニトリル化、フリーデルクラフト、ザンドマイヤー、ハイドロボレーション、ハロゲン化、ヒドラジン縮合、メチロール化、塩合成、加水分解、環合成、光学分割、酸アミド化、酸クロライド、脱炭酸、コルベシュミット、他 |
禁水性物質 | n-BuLi、sec-BuLi、60%NaH等 |
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消防法危険物第5類 | 有機過酸化物、NaN3、塩酸ヒドロキシルアミン等 |
その他 | 五硫化二リン、無機CN化合物、ジボラン、臭素等 |
反応器 |
0.5m3~20m3 GL/SUS/HC相当 アンカー翼、三枚後退翼、フルゾーン翼、他 |
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濾過機(遠心分離機) |
24~48インチ SUS/HC相当/テフロンライニング縦型遠心機(上排式、底排式) |
乾燥機 |
1m3~7m3 コニカルドライヤー、真空棚段乾燥機 GL/SUS |
粉砕機 |
16基 ピンミル、カッターミル、ハンマーミル、ジェットミル、他 |
クリーンルーム |
9系列 クラス:100,000で管理 |
-80℃~180℃ | UTT:液体窒素、ブライン、チリングウォーター、スチーム(190℃) |
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FV~0.99Mpa |
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治験薬製造設備概要
商業設備と同様の反応は勿論のこと、ご要望に応じ幅広く対応致します。 |
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ご要望に応じ幅広く対応致します。 |
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反応器 |
100L~8000L GL 合計50m3、SUS 合計30m3 アンカー翼、三枚後退翼、フルゾーン翼、モールポー翼他 |
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濾過器(遠心分離機) |
24~42インチ SUS、HC相当 |
乾燥機 |
200L~850L GL |
粉砕機 |
4基 ピンミル、カッターミル、ハンマーミル、ジェットミル |
クリーンルーム |
1系列 クラス:100,000で管理 |
-80℃~180℃ | UTT:液体窒素、ブライン、チリングウォーター、スチーム(190℃) |
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FV~0.97MPa |
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分析機器
分離分析装置 | 高速液体クロマトグラフィー(HPLC)、超高速液体クロマトグラフィー(UHPLC)、ガスクロマトグラフィー(GC)、イオンクロマトグラフィー(IC) |
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光分析装置 | フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR)、紫外可視分光光度計(UV-vis)、旋光計、屈折率計、色差計 |
粉末分析装置 | 粉末X線回析装置、粒度分布計 |
核磁気共鳴装置 | 核磁気共鳴装置(400MHz-NMR) |
質量分析装置 | 誘導結合プラズマ質量分析装置(ICP/MS)、液体クロマトグラフィー質量分析計(LC-MS)、ガスクロマトグラフィー質量分析計(GC/MS) |
熱分析装置 | 示差走査熱量計(DSC)、熱重量示差熱分析装置(TG/DTA) |
一般分析装置 | pH計、融点測定装置、全有機体炭素計(TOC計)、カールフィッシャー測定装置(容量式、電量式)、滴定装置、比重計、導電率計 |