Contract Manufacturing

Overview

医薬事業は長年培った有機合成技術を糧に、1980年代から研究開発がスタートしました。
今では、自社、または製薬メーカーとの共同で医薬原体を開発する「創薬」と製薬会社から原体・中間体製造のプロセス開発や製造を請け負う「受託」の二つの柱で成り立っています。

  • 開発段階から上市後まで、どの段階でも、原薬・中間体の受託製造を引受けます。
  • 経験豊富なプロセスケミスト・エンジニアが最適な製造プロセスを確立し、スケールアップを確実に進めます。
  • ご要望に応じて、試験法の開発・バリデーションをおこないます。
  • 開発期間を通じて、豊富な経験を生かした治験薬GMPに基づく治験薬原体・中間体の製造を行ない、お客様の開発をサポートいたします。
  • ご要望に応じて、申請関係書類(Drug Master File 等)の作成、提出を行ないます。
  • 承認後は十分な反応槽のキャパシティを活用した製造により、お客様の製品の安定供給を支えていきます。
  • 製造はcGMPに基づいて管理されております。米国FDAから新薬申請に伴う承認前査察(PAI)を受けています。最新PAIは2008年4月です。

Inspection Record

米国FDAから新薬申請に伴う承認前査察(PAI)を受け、高い評価を得ました。

US-FDA
2002年 医薬中間体(PAI)
2008年 医薬原体(PAI)

また、上記以外にも、日本国内の規制当局、日本・欧米の多数の製薬ユーザー様の各種査察を受けております。

New Drug DMF Records

お客様のご要望に応じ、申請関係書類(Drug Master File等)の作成、提出を行なっています。

US-FDA Europe 日本(製造承認)
1998年 医薬原体(IND) 1998年~ 動物薬原体(NDA) 1993年 医薬原体
1998年 医薬中間体(NDA)   1995年 医薬原体
1999年 動物薬中間体(NDA) 2000年 医薬原体
2000年 医薬原体(IND) 2003年 医薬原体
2004年 医薬原体(IND)  

Manufacturing Equipment

医薬原体中間体受託製造は、プロセス開発からパイロット製造・承認後の商業生産まで、山口県宇部市の同じサイトで一貫して行なっております。新薬(オリジナル医薬品)の原薬・中間体の製造を日本、欧州、米国向けに行ってきており、豊富な経験がございます。

第1医薬品工場(cGMP対応 原体用汎用プラント)

機器 サイズ/能力 材質
反応槽 4,000L(2基) Glass lined
3,000L Glass lined
2,000L Glass lined
2,000L SUS316
1,300L Glass lined
分離・乾燥 遠心分離機 36inch(2基) Teflon® lined*1
遠心分離機 36inch(2基) SUS316L
コニカル乾燥機 1,500L Glass lined
コニカル乾燥機 1,500L SUS316
蒸留塔 Sulzer 4,000H(2基) SUS316

第2医薬品工場(cGMP対応 原体/中間体用汎用プラント)

<原体系列(cGMP対応)>

機器 サイズ/能力 材質
反応槽 4,000L(3基) Glass lined
分離・乾燥 遠心分離機 42inch(2基) Teflon® lined*1
濾過機 1m²(2基) SUS316
濾過機 0.8m² Glass lined
コニカル乾燥機 3,000L(2基) Glass lined
静置式乾燥機 16m² SUS316
粉砕機 ジェットミル 40kg/h SUS316
コミル®(解砕機)*3 100kg/h Hastelloy® C-22*2

<中間体系列(cGMP対応)>

機器 サイズ/能力 材質
反応槽 4,000L Glass lined
8,000L(4基) Glass lined
8,000L(2基) SUS316
分離・乾燥 遠心分離機 48inch SUS316
遠心分離機 48inch Teflon® lined*1
濾過機 3m² SUS316
濾過機 4m² SUS316
濾過機 2m² Hastelloy® C-22*2
コニカル乾燥機 2,000L SUS316
コニカル乾燥機 3,000L SUS316
コニカル乾燥機 3,000L Glass lineds

第3医薬品工場(cGMP対応 原体/中間体用汎用プラント)

機器 サイズ/能力 材質
反応槽 8,000L(2基) Glass lined
10,000L SUS316
15,000L(3基) Glass lined
分離・乾燥 遠心分離機 48inch Teflon® lined*1
遠心分離機 48inch SUS316
濾過機 4m² Hastelloy® C-22*2
濾過機 4m² SUS316
濾過機 5m² SUS316
コニカル乾燥機 6,000L Glass lined
コニカル乾燥機 6,000L SUS316

治験薬工場(cGMP対応 汎用パイロットプラント) 計3系列

機器 サイズ/能力 材質
反応槽   2,000L(5基) Glass lined
2,000L Stainless steel
1,000L Glass lined
500L(2基) Glass lined
200L Glass lined
50L Glass lined
高圧反応(~0.7MPa) 2,600L Stainless steel
マックスブレンド 2,000L Glass lined
低温反応(-90~90℃) 500L Stainless stee
分離・乾燥 遠心分離機 42inch Teflon® lined*1
遠心分離機 42inch Stainless steel
遠心分離機 30inch Stainless steel
濾過機 0.3m²(2基) Glass lined
濾過機 0.2m² Hastelloy® C-22*2
濾過機 0.2m² Glass lined
濾過乾燥機 0.2m² Hastelloy® C-22*2
静置式乾燥機 9.2m² Stainless steel
振動流動乾燥機 240L Titanium lined
コニカル乾燥機 1,000L Glass lined
コニカル乾燥機 1,000L Stainless steel
粉砕機 ジェットミル 10kg/h Stainless steel
ハンマーミル 10-30kg/h Stainless steel
コミル®(解砕機)*3 40kg/h Stainless steel

*1「Teflon®」はデュポン社の登録商標です。

*2「Hastelloy®」はヘインズ社の登録商標です。

*3「コミル®」はクアドロ・エンジニアリング社の登録商標です。

Manufacturing Equipment

cGMP対応多目的原薬製造プラント、多目的治験薬製造プラントを用いて、医薬原薬・医薬中間体を高品質・低コストで安全に安定供給しています。医薬原薬・医薬中間体の品質保証について、原薬調達から製造、加工、出荷に至るまでの全てのプロセスで万全の品質保証体制を敷き、お客様の信頼と満足にお応えしております。

商業生産設備概要

反応・技術
危険な反応 テトラゾール化、ジアゾ化、ニトロ化、水素還元、グリニヤール反応
その他 アミノ化、アルキル化、イミド化、イミノエーテル化、エーテル化、エステル化、カルバモイル化、スルホン化、脱ハロゲン化、チオアミド化、ジスルフィド化、ニトリル化、フリーデルクラフト、ザンドマイヤー、ハイドロボレーション、ハロゲン化、ヒドラジン縮合、メチロール化、塩合成、加水分解、環合成、光学分割、酸アミド化、酸クロライド、脱炭酸、コルベシュミット、他
取扱い可能物質(一例)
禁水性物質 n-BuLi、sec-BuLi、60%NaH等
消防法危険物第5類 有機過酸化物、NaN3、塩酸ヒドロキシルアミン等
その他 五硫化二リン、無機CN化合物、ジボラン、臭素等
保有設備
反応器 0.5m3~20m3
GL/SUS/HC相当
アンカー翼、三枚後退翼、フルゾーン翼、他
濾過機(遠心分離機) 24~48インチ
SUS/HC相当/テフロンライニング縦型遠心機(上排式、底排式)
乾燥機 1m3~7m3
コニカルドライヤー、真空棚段乾燥機
GL/SUS
粉砕機 16基
ピンミル、カッターミル、ハンマーミル、ジェットミル、他
クリーンルーム 9系列
クラス:100,000で管理
操作温度
-80℃~180℃ UTT:液体窒素、ブライン、チリングウォーター、スチーム(190℃)
操作圧力
FV~0.99Mpa

治験薬製造設備概要

反応・技術
商業設備と同様の反応は勿論のこと、ご要望に応じ幅広く対応致します。
取扱い可能物質(一例)
ご要望に応じ幅広く対応致します。
保有設備
反応器 100L~8000L
GL 合計50m3、SUS 合計30m3
アンカー翼、三枚後退翼、フルゾーン翼、モールポー翼他
濾過器(遠心分離機) 24~42インチ
SUS、HC相当
乾燥機 200L~850L
GL
粉砕機 4基
ピンミル、カッターミル、ハンマーミル、ジェットミル
クリーンルーム 1系列
クラス:100,000で管理
操作温度
-80℃~180℃ UTT:液体窒素、ブライン、チリングウォーター、スチーム(190℃)
操作圧力
FV~0.97MPa

分析機器

分離分析装置 高速液体クロマトグラフィー(HPLC)、超高速液体クロマトグラフィー(UHPLC)、ガスクロマトグラフィー(GC)、イオンクロマトグラフィー(IC)
光分析装置 フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR)、紫外可視分光光度計(UV-vis)、旋光計、屈折率計、色差計
粉末分析装置 粉末X線回析装置、粒度分布計
核磁気共鳴装置 核磁気共鳴装置(400MHz-NMR)
質量分析装置 誘導結合プラズマ質量分析装置(ICP/MS)、液体クロマトグラフィー質量分析計(LC-MS)、ガスクロマトグラフィー質量分析計(GC/MS)
熱分析装置 示差走査熱量計(DSC)、熱重量示差熱分析装置(TG/DTA)
一般分析装置 pH計、融点測定装置、全有機体炭素計(TOC計)、カールフィッシャー測定装置(容量式、電量式)、滴定装置、比重計、導電率計

Contract Manufacturing Process

Contact

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